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Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences |
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| Quantità di personale | -- | |
| Tipi di apparecchiature |
Apparecchiature incisione al plasma, Sputtering celle, PECVD celle
Sputtering film sottile, PECVD film sottile, Apparecchiature incisione al plasma film sottile
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| Società capogruppo | -- | |
| Productos | ||
| Ultimo aggiornamento | 18-01-2010 | |