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  SKY Technology Development Co., Ltd.
  Indirizzo: No.1, Xinyuan Street, Hunnan New District, Shenyang, Liaoning. China
  Sito internet: www.sky.ac.cn
Telefono: +86 24 23826820
Fax: +86 24 23826820
E-mail: zhaoclsky.ac.cn
  Quantità di personale 340
  Tipi di apparecchiature
PECVD celle
PECVD film sottile
  Società capogruppo --
  Ulteriori informazioni  
  (Pubblicità)		 中科院沈阳科仪公司（sky）产品分别包括：晶硅光伏PECVD、单晶炉、罗茨干泵机组、涡旋干泵、超高真空插板阀、及真空部件等，同时与美籍华人科学家奚建平先生领军的苏州思博露光伏能源科技有限公司合作研发生产的“SD大型平板PECVD氮化硅覆膜系统”，驻澳用于晶体硅太阳能电池片制造过程中的减反射氮化硅（SixNy）薄膜的制备。填补了国内空白，扭转了国内太阳能电池片生产线上平板PECVD设备全部进口的局面。
Productos
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公司生产的光伏产品的主要类型
SD30 大型平板PECVD氮化硅覆膜系统；SD50 大型平板PECVD氮化硅覆膜系统；下传输系统。

沉积原理
微波(2.45GHz)通过一个同轴的石英管系统来激发等离子体。通过内置同轴的石英管与微波发射器相接后可在石英管上进行表面波放电，先将氨气离化，再轰击硅烷，产生的氮化硅分子沉积在样品的表面上，反应方程式如下：SiH4＋NH3 → SixNy ＋ H2

人员(人)

腔体(个)

工位(位)

设备长(米)

控制方式

SD30型

4

3

9

12

全自动

SD50型

6

5

13

18

全自动

产能

片/小时(125*125)

片/天(125*125)

膜厚

折射率

SD30型

34MW

1890

4.2万

78～82nm

2.0～2.1

SD50型

50MW

2750

6万

78～82nm

2.0～2.1

SD大型平板PECVD氮化硅覆膜系统

回填气体

运行功率

微波源

预热时间

SD30型

氮气

80KW

4对

75s

SD50型

压缩空气

90KW

6对

110s

Inline-膜厚、折射率均匀性

片间均匀性

片内均匀性

框内

膜厚

± 4%

± 2.5%

± 4%

折射率

± 1.5%

± 1.5%

± 1.5%

设备最大特点
最优的性价比 : 三腔体九工位设计、产能50MW
更优的运行成本 : 稳定能耗80KW、稳定工艺。
低碎片率 :  <0.1%
均匀性：膜厚<4%、折射率<1.5%.
低维护率 : 闭环水、电、气安全监控系统
人性化操作方式 : 全自动智能学习型人机界面
多层次操作 : 权限式操作管理
高效的服务响应 : 2h电话响应，36h现场响应
有效的质量保障 : ISO9001的制造流程
随意组合 : 可量身定制产品

 

自动载板传输系统:

传输方式

带速
(m/min)

耐温

控制方式

I型

滚轮式

15

300°C

伺服电机

II型

皮带式

15

120°C

伺服+异步

III型

复合式

12

260°C

伺服+异步

您选择我的理由：

产能高 、低投入:
125×125：2750片/小时，6万片/天，50MW/年
156×156：1630片/小时，3.59万片/天，45MW/年
人性化的操作：操作简单、高自动化、智能性

外国人能做到的，中国人也一定能做的更好！ 离不开您的支持！
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  Ultimo aggiornamento 14-11-2011  
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